研發(fā)與應(yīng)用

進(jìn)口+國產(chǎn)合成高純石英砂5N6N7N8N9N

進(jìn)口合成高純石英砂5N6N7N8N9N

國內(nèi)合成高純石英砂４N5N6N7N

產(chǎn)品型號：HCQS-D5N/6N/7N/8N/9N

產(chǎn)品型號：HCQS-C5N/6N/7N/8N

產(chǎn)品參數(shù)
性能特點
產(chǎn)品應(yīng)用

進(jìn)口合成高純石英砂5N6N7N8N9N

國內(nèi)合成高純石英砂４N5N6N7N

產(chǎn)品型號：HCQS-D5N/6N/7N/8N/9N

產(chǎn)品型號：HCQS-C5N/6N/7N/8N

特點：

高純度：合成石英砂具有高純度，不含雜質(zhì)。高純度的石英砂在光學(xué)領(lǐng)域中應(yīng)用廣泛，可用于制造高精度的光學(xué)元件，如鏡片、透鏡和光纖等，以提供優(yōu)質(zhì)的光學(xué)性能。
高密度和高透光性：合成石英砂具有高密度和高透光性，使其在光學(xué)和半導(dǎo)體領(lǐng)域中具有重要應(yīng)用。高密度的石英砂可用于制造半導(dǎo)體芯片的基板，提供穩(wěn)定的支撐和優(yōu)異的電氣性能。高透光性的石英砂可用于制造光學(xué)器件，如光纖和光學(xué)窗口，以實現(xiàn)高質(zhì)量的光傳輸和光學(xué)成像。

合成采用方式：
管外汽相沉積法（OVD）
汽相軸向沉積法（VAD）
等離子體管內(nèi)化學(xué)氣相沉積法（PCVD）
管內(nèi)化學(xué)氣相沉積法（MCVD）
硅醇鹽法。

HCQS-C5N合成石英砂數(shù)據(jù)表
檢測項目	單位	檢測結(jié)果
Al鋁	mg/kg	3.89
Ca鈣	mg/kg	0.56
Cu銅	mg/kg	0.001
Fe鐵	mg/kg	0.74
K鉀	mg/kg	0.56
Li鋰	mg/kg	0.039
Mg鎂	mg/kg	0.08
Na鈉	mg/kg	0.068
Ni鎳	mg/kg	0.01
Cr鉻	mg/kg	0.01
Mn錳	mg/kg	0.01
Ti鈦	mg/kg	1.47
Co鈷	mg/kg	0.003
結(jié)果分析	總雜質(zhì)	7.441

HCQS-C6N合成石英砂數(shù)據(jù)表
檢測項目	單位	檢測結(jié)果
Fe鐵	ppm	0.12
Ni鎳	ppm	0
Cu銅	ppm	0
Mn錳	ppm	0
Mg鎂	ppm	0
Ca鈣	ppm	0.03
Al鋁	ppm	1.5
Na鈉	ppm	0.0985
Li鋰	ppm	0.03
K鉀	ppm	0.012
Ti鈦	ppm	0.092
結(jié)果分析	總雜質(zhì)	1.8825

密度：2.66（+0.03，-0.02）g/cm3。

純度?：產(chǎn)品純度極高，有7N級別（即99.99999%的純度）

價格?：國外進(jìn)口價格在50-120萬元/噸之間，且從日本購進(jìn)合成砂審批繁瑣且成本高

應(yīng)用：精密儀器、半導(dǎo)體器件、光伏用石英坩堝、紫外燈用石英管、光導(dǎo)纖維、紅外透過光學(xué)材料、高功率激光光學(xué)材料、PET機(jī)用閃爍晶體等

1. 高純度：合成石英砂具有高純度，不含雜質(zhì)。高純度的石英砂在光學(xué)領(lǐng)域中應(yīng)用廣泛，可用于制造高精度的光學(xué)元件，如鏡片、透鏡和光纖等，以提供優(yōu)質(zhì)的光學(xué)性能。
2. 高密度和高透光性：合成石英砂具有高密度和高透光性，使其在光學(xué)和半導(dǎo)體領(lǐng)域中具有重要應(yīng)用。高密度的石英砂可用于制造半導(dǎo)體芯片的基板，提供穩(wěn)定的支撐和優(yōu)異的電氣性能。高透光性的石英砂可用于制造光學(xué)器件，如光纖和光學(xué)窗口，以實現(xiàn)高質(zhì)量的光傳輸和光學(xué)成像。
應(yīng)用：精密儀器、半導(dǎo)體器件、光伏用石英坩堝、紫外燈用石英管、光導(dǎo)纖維、紅外透過光學(xué)材料、高功率激光光學(xué)材料、PET機(jī)用閃爍晶體等

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研發(fā)與應(yīng)用

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